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光敏聚酰亞胺主要有哪兩大應(yīng)用


發(fā)布時(shí)間:2021-11-17 15:21:15 瀏覽次數(shù):

摘要:光敏聚酰亞胺主要有光刻膠和電子封裝兩大應(yīng)用。PSPI光刻膠相比于傳統(tǒng)光刻膠,無(wú)需涂覆光阻隔劑,能大幅縮減加工工序。

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    光敏聚酰亞胺主要有光刻膠和電子封裝兩大應(yīng)用。PSPI光刻膠相比于傳統(tǒng)光刻膠,無(wú)需涂覆光阻隔劑,能大幅縮減加工工序。同時(shí)PSPI也是重要的電子封裝膠,光敏聚酰亞胺作為封裝材料可用于:緩沖涂層、鈍化層、α射線屏蔽材料、層間絕緣材料、晶片封裝材料等,同時(shí)還廣泛應(yīng)用于微電子工業(yè)中,包括集成電路以及多芯片封裝件等的封裝中。

    聚酰亞胺薄膜具有優(yōu)良的熱穩(wěn)定性、耐化學(xué)腐蝕性和力學(xué)性能,通常為橙色,石墨或玻璃纖維增強(qiáng)的聚酰亞胺的彎曲強(qiáng)度和模量可達(dá)345MPa和20GPa。熱固性聚酰亞胺具有蠕變小、抗拉強(qiáng)度高等特點(diǎn)。6052聚酰亞胺薄膜的溫度范圍寬,從零度到兩到三個(gè)以上。聚酰亞胺具有穩(wěn)定的化學(xué)性能。
聚酰亞胺可以防止燃燒,不添加阻燃劑。一般聚酰亞胺耐化學(xué)藥品。cal溶劑,如烴類(lèi)、酯類(lèi)、醚類(lèi)、醇類(lèi)和氟化物。它們也耐弱酸,但不推薦用于強(qiáng)堿性和無(wú)機(jī)酸環(huán)境。

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